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微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測試系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)： - 品 牌： 卓立漢光 價(jià)格電議,您可以向供應(yīng)商詢價(jià)得到該產(chǎn)品價(jià)格 所 在 地： 北京通州區(qū) 更新日期： 2025-06-04 詳細(xì)信息品牌：卓立漢光 型號(hào)：- 加工定制：是 用途：磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等 型號(hào)：- 加工定制：是 微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測試系統(tǒng)
產(chǎn)品介紹：
磁光克爾測量技術(shù)主要通過探測光和磁性樣品相互作用后反射光的偏振態(tài)變化來研究材料的磁性，在超快磁光存儲(chǔ)領(lǐng)域有重要應(yīng)用，磁光克爾測量技術(shù)是一種無接觸光學(xué)測量技術(shù)， 在單原子層微小樣品測量方面獨(dú)具優(yōu)勢，實(shí)現(xiàn)PPMS和SQUID無法完成的測量。微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)是基于磁光克爾效應(yīng)的非接觸、非破壞可直接觀測磁性材料和器件中的磁化狀態(tài)的光學(xué)顯微成像設(shè)備，用于清晰直觀了解樣品內(nèi)的磁化狀態(tài)空間分布和時(shí)間演化。
微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測試系統(tǒng)可以根據(jù)用戶的需求升級(jí)拓展拉曼，熒光，熒光壽命及二次諧波等模塊，可用于檢測樣品表面磁性和磁疇結(jié)構(gòu)，適用于磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等應(yīng)用領(lǐng)域。
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：
磁光克爾顯微成像測試系統(tǒng)使用多路鎖相，同步采集，大幅抑制激光功率波動(dòng)噪聲。配置無磁反射式物鏡或單個(gè)非球面鏡成像，極低的法拉第效應(yīng)。使用光彈調(diào)制器，同步獲得MOKE與RMCD數(shù)據(jù)。產(chǎn)品從空間配置與鍍膜參數(shù)嚴(yán)格設(shè)計(jì)及檢測的光學(xué)元件組，保偏性能極佳。
主要配置清單：
模塊
參數(shù)
主體架構(gòu)
主體尺寸：長 × 寬 × 高，約 600 mm × 600 mm × 550 mm;
高承重三維電控底座：步進(jìn)電機(jī)位移行程：行程：X*Y*Z 120*120*40 mm；XY*小步進(jìn)距離： 0.04 um， Z軸*小步進(jìn)距離：~0.01 um；*大負(fù)載：＞ 10 Kg；
鋁合金整體架構(gòu)；
光路整體移動(dòng)：1. 光路移出以更換樣品；2. 大范圍尋找待測區(qū)域。
靠近磁體部分采用無磁設(shè)計(jì)；顯微成像模塊
尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；
可見光相機(jī)：20M pixels，15fps@5K ，50fps@1.8K， Sony 1 英寸CMOS;
物鏡： 適配磁體，無磁反射式物鏡或非球面透鏡；
照明光源： 科勒照明， LED面光源，亮度連續(xù)可調(diào)；
成像模塊可電控完全移出光路，且不影響樣品面光斑位置。MOKE&RMCD模塊
外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；
包含所需的外置設(shè)備：鎖相放大器；
低噪聲前置放大探頭；
光彈調(diào)制器；
斬波器；
克爾角分辨率： ~0.5 mdeg (~ 8.7mrad)；
一次掃場同時(shí)獲得RMCD和MOKE數(shù)據(jù)；
電控切換成像與測試；
電控功率；
Mapping功能，配合步進(jìn)掃描臺(tái)，或低溫設(shè)備內(nèi)置壓電臺(tái)。Raman532&PL&SHG模塊
外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；
拉曼*低波數(shù)：＜ 80 cm-1；
空間分辨率：300 nm （532 nm激光）；
電控偏振掃描：起偏&檢偏，角度分辨率 0.0144 deg；
電控功率調(diào)整；
Mapping功能，配合步進(jìn)掃描臺(tái)，或低溫設(shè)備內(nèi)置壓電臺(tái)。532nm窄線寬激光器
MSL-U-532中心波長：532nm+/-0.1
輸出功率：100mw
功率穩(wěn)定性：2%（4 小時(shí) RMS）
M2：＜1.2
線寬：＜0.00001nm
光斑模式：TEM00
噪聲：＜0.5%軟件
MOKE，RMCD，Raman，PL 掃描成像；
偏振掃描；
支持文本代碼輸入，以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化測試流程； -
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